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簡要描述:制備方法:層間催化裂解法厚度:~2nm直徑:5~10um純度:98%含氧量:1.44%電導率:~2597 s/cm
詳細介紹
制備方法:
層間催化裂解法
厚度:~2nm
直徑:5~10um
純度:98%
含氧量:1.44%
電導率:~2597 s/cm
制備方法:
層間催化裂解法
厚度:~2nm
直徑:5~10um
純度:98%
含氧量:1.44%
電導率:~2597 s/cm
制備方法:
層間催化裂解法
厚度:~2nm
直徑:5~10um
純度:98%
含氧量:1.44%
電導率:~2597 s/cm
制備方法:
層間催化裂解法
厚度:~2nm
直徑:5~10um
純度:98%
含氧量:1.44%
電導率:~2597 s/cm
產(chǎn)品名稱 | 厚度 | 直徑 | 規(guī)格 |
石墨烯納米片(2~10nm) | 2~10nm | ~5um | 50g/500g |
石墨烯納米片(1~2mm) | 1~2mm | 5~10um | 500mg |
石墨烯納米片(1~5mm) | 1~5mm | ~5um | 1g/5g/10g |
Typical SEM Image of ACS Material Graphene Nanoplaets (1-2nm)
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